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模型說明
--誰被描繪?

我們沒有任何人可以在浮雕上描繪,但我們可以推斷,這些人是兩個穿著衣服、擺著姿勢的羅姆人。

--關(guān)于雕像的技術(shù)規(guī)格

浮雕是一種雕塑技術(shù),其中雕刻的元素保持附著在相同材料的堅實背景上。reliev一詞來自拉丁語動詞relevo,意為“提高”。在浮雕中創(chuàng)作雕塑就是給人一種印象,即雕刻的材料已經(jīng)高出背景平面。當(dāng)從石頭(浮雕雕塑)或木頭(浮雕雕刻)的平面切割浮雕時,實際執(zhí)行的是降低場地,使被切割的部分看起來升高。這項技術(shù)涉及到可卷曲的背景鑿除,這是一項時間偽裝練習(xí)。另一方面,浮雕保留了主體的后部,比圓形雕塑更不脆弱,固定更安全,尤其是腳踝是潛在弱點的站立雕塑,尤其是石頭雕塑。在其他材料中,如金屬、粘土、灰泥、陶瓷或紙塑,可以直接將形狀添加到背景中或從背景中抬起,紀(jì)念性的青銅浮雕是通過鑄造制作的。浮雕的程度取決于雕刻形式從現(xiàn)場的投影程度,有時仍使用意大利語的稱謂。全范圍包括高浮雕(alto rilievo,haut Relieve),其中顯示了超過50%的深度,可能有底切區(qū)域、中浮雕(mezzo rilievo)、低浮雕(basso rilievo,或法語:Bass Relieve/?b?r??li?f/),以及淺浮雕或rilievo schiacciato,其中平面僅略低于雕刻元素。還有沉陷浮雕,主要局限于古埃及(見下文)。然而,高浮雕和低浮雕之間的區(qū)別是最清楚和最重要的,這兩個術(shù)語通常是討論大多數(shù)作品時使用的唯一術(shù)語。這些術(shù)語的定義有些不同,許多作品將多個區(qū)域合并在一起,有時在一個圖形中在它們之間滑動;因此,有些人更喜歡避免所有的區(qū)別。與浮雕相反的是反浮雕、凹雕或cavo rilievo,其形式被切割到原野或背景中,而不是從原野或背景中升起;這在紀(jì)念性雕塑中非常罕見。連字符可能會也可能不會在所有這些術(shù)語中使用,盡管它們很少出現(xiàn)在“凹陷浮雕”中,通常出現(xiàn)在“淺浮雕”和“反浮雕”中。該技術(shù)中的作品被描述為“浮雕”,尤其是在紀(jì)念雕塑中,作品本身就是“浮雕”。
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